轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明來(lái)源：無(wú)塵車間設(shè)計(jì)流程規(guī)范http://www.mcwdg.cn/baike/6112.html

無(wú)塵車間也稱為無(wú)塵室，潔凈室，空氣中的有害空氣污染物，在細(xì)菌的影響下，一些顆粒被排除在外，和房間的溫度，潔凈度，環(huán)境壓力，氣流速度與氣流分布，噪音振動(dòng)及照明，靜電控制在一定的應(yīng)用，并給予特別設(shè)計(jì)的無(wú)塵車間。換句話說(shuō)，無(wú)論怎么變化在外部空氣的條件下，其內(nèi)部可能保留了原來(lái)的要求的其他性能特征的潔凈度

無(wú)塵車間應(yīng)該維持一定的正壓，可通過(guò)送風(fēng)量大于排風(fēng)量的辦法達(dá)到。不同等級(jí)的無(wú)塵車間以及無(wú)塵區(qū)與非無(wú)塵區(qū)之間的靜壓差應(yīng)大于或等于5Pa，無(wú)塵區(qū)與室外的靜壓差應(yīng)大于或等于10Pa。工藝過(guò)程產(chǎn)生大量粉塵、有害物質(zhì)、易燃易爆物質(zhì)的工序，其操作室與其他房間或區(qū)域之間應(yīng)保持相對(duì)負(fù)壓。

到目前為止，在半導(dǎo)體無(wú)塵車間、潔凈室中**迫切需要適當(dāng)控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對(duì)相對(duì)濕度極為敏感的特性，它對(duì)相對(duì)濕度的控制范圍的要求是**嚴(yán)格的水準(zhǔn)。在高的相對(duì)濕度環(huán)境下，由于水分的吸收，使烘烤循環(huán)后光刻膠膨脹加重。光刻膠附著力同樣也可以受到較高的相對(duì)濕度的負(fù)面影響；較低的相對(duì)濕度（約30%）使光刻膠附著更加容易，甚至不需要聚合改性劑，